<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Тестирование on UV Curing Star</title>
		<link>http://uv-curing-star.com/ru/tags/%D1%82%D0%B5%D1%81%D1%82%D0%B8%D1%80%D0%BE%D0%B2%D0%B0%D0%BD%D0%B8%D0%B5/</link>
		<description>Recent content in Тестирование on UV Curing Star</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>ru</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Sun, 07 Jun 2026 06:19:04 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://uv-curing-star.com/ru/tags/%D1%82%D0%B5%D1%81%D1%82%D0%B8%D1%80%D0%BE%D0%B2%D0%B0%D0%BD%D0%B8%D0%B5/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Галлий лампа для тестирования солнечных элементов</title>
				<link>http://uv-curing-star.com/ru/posts/gallium-lamp-for-solar-cell-testing/</link>
				<pubDate>Sun, 07 Jun 2026 06:19:04 +0800</pubDate>
				<guid>http://uv-curing-star.com/ru/posts/gallium-lamp-for-solar-cell-testing/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://uv-curing-star.com/images/ade5bfab5de03056f3a80cc9a815d2bf.png&#34; alt=&#34;Галлий лампа для тестирования солнечных элементов&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;На производственном участке УФ-лампа, не соответствующая задаче, не только потребляет электроэнергию впустую. Она выдает нестабильный спектральный состав, что сразу проявляется в виде нестабильного отверждения на линии. Независимо от того, идет ли речь о тестировании солнечных элементов или промышленной печати, правильная галлиевая лампа — это не универсальный расходник. Это настроенный световой источник, подобранный под вашу машину и химический состав чернил.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;Что действительно важно «под капотом»&lt;/strong&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Мы создаём наши галлиевые лампы с контролируемым спектральным профилем, смещая энергию в диапазон 385–405 нм и снижая избыток коротковолнового УФ-излучения. Это существенно, потому что многие фотоинициаторы в УФ-чернилах и клеях активируются именно в этом диапазоне, обеспечивая более быстрое поверхностное отверждение без перегрева тонких подложек. Следует наблюдать стабильную интенсивность вдоль длины дуги, постоянное пиковое излучение и плотность энергии отверждения, неизменно повторяющуюся от запуска до окончания срока службы. Геометрия отражателя и дихроическое покрытие рассчитаны на направленное попадание полезных фотонов на подложку, а не на избыточный нагрев пресса.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
