УФ лампа на галлии для обработки ПКБ

Thu, 25 Jun 2026 11:00:48 +0800

На плате ПКБ неправильно расположенная или недостаточно засохшая защитная плёнка не только портит внешний вид платы, но и может привести к короткому замыканию между линиями толщиной 100 мкм. Недостаточно просто подать излучение УФ-лампы; необходим правильный спектр излучения, направленный именно туда, где это нужно. Именно поэтому мы разработали нашу УФ-лампу с галлийом, учитывая все эти факторы.

Что действительно важно У нас есть пиковая интенсивность излучения в 365 нм при узкой полосе спектра, соответствующей спектру поглощения фотоинициаторов, содержащихся в чернилах для защитной плёнки. Интенсивность излучения остается выше 1,200 мВт/см² на расстоянии, используемом в устройстве для обработки платы. Это обеспечивает необходимый поток фотонов для быстрого связывания компонентов. Выходное излучение остаётся стабильным благодаря лампе с низким уровнем износа — мы использовали такие лампы более 5,000 часов без снижения интенсивности излучения более чем на 5%. Рефлектор имеет дихроичное покрытие, которое удаляет инфракрасное излучение и сохраняет стабильность спектра, что позволяет поддерживать одинаковую энергетическую плотность на всей поверхности платы.

Разоблачение on UV Curing Star

УФ лампа на галлии для обработки ПКБ